Inmetro participa da primeira comparação interlaboratorial em nível mundial sobre grafeno

Os resultados da primeira comparação interlaboratorial internacional para medição de propriedades de grafeno, realizada dentro do escopo do VAMAS (Versailles Project on Advanced Materials and Standards), foram publicados na revista 2D Materials. Este projeto, liderado pelo NPL (Instituto Nacional de Metrologia do Reino Unido) em colaboração com o Inmetro e NIST (EUA), contou com a participação de 17 laboratórios de todo o mundo, representando Institutos Nacionais de Metrologia, Universidades, Centros de Pesquisas e Indústria.

A comparação interlaboratorial apresentou um procedimento que pode reduzir a incerteza de medição por espectroscopia Raman, em alguns casos por um fator de 15.  Isso significa que o procedimento que foi adotado neste interlaboratorial mostrou que é possível reduzir em cerca de 15 vezes a incerteza de medição de uma das grandezas em comparação com outras metodologias usualmente utilizadas.

O procedimento servirá de base para a elaboração de uma nova norma internacional em desenvolvimento na ISO, que subsidiará a obtenção de dados mais confiáveis e fornecerá padrões de medição mais precisos para a indústria global de grafeno.

Embora o grafeno seja um material extraordinário que promete revolucionar  praticamente todos ramos industriais, desde de micro/nano eletrônica à construção, por ser formado por uma única camada de átomos de carbono, o mesmo pode ser difícil de medir. Há, portanto, uma necessidade premente de medições confiáveis, reprodutíveis e precisas de suas propriedades, por meio de normas internacionais, de forma a facilitar o crescimento industrial.

Ao comparar as diferenças nas medições do mesmo grafeno crescido por CVD (Chemical Vapor Deposition, em inglês) e utilizando um mesmo protocolo por diferentes laboratórios, mensurandos importantes usados para determinar algumas das propriedades do grafeno podem variar por um fator de 3. Contudo, se os usuários realizarem uma calibração de intensidade usando um material de referência e uma forma consistente de análise de dados, essa variação poderá ser drasticamente reduzida. Esses resultados e aprimoramentos do método serão usados ​​na ISO/AWI TS 21356-2 “Structural characterization of graphene – Part 2: Chemical vapour deposition (CVD) grown graphene”, que está atualmente em desenvolvimento na ISO e IEC.